专利名称：NEW GROUP V METAL CONTAINING
PRECURSORS AND THEIR USE FOR METALCONTAINING FILM DEPOSITION
发明人：BLASCO, Nicolas,DANIELE, Stéphane,MERLE,
Nicolas,DUSSARRAT, Christian
申请号：EP07821580.3申请日：20071019公开号：EP2079751A1公开日：20090722
摘要：Compound of the formula (Ia), or of the formula (Ib). These new precursors areuseful for pure metal, metallic oxide, oxynitride, nitride and/or silicide film deposition tomake electrodes and/or high k layers, and/or copper diffusion barrier layers, etc...
申请人：L'AIR LIQUIDE, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des ProcédésGeorges Claude,CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE
地址：75, quai d'Orsay 75007 Paris FR,3, rue Michel-Ange 75794 Paris Cedex 16 FR
国籍：FR,FR
代理机构：Conan, Philippe Claude
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